中芯国际启动7nm EUV产线扩建，国产光刻机供应链隐现突破
2025年8月14日，上海 中芯国际（SMIC）今日公告将投资42亿美元扩建上海临港7纳米EUV晶圆厂，规划月产能增至3.5万片。引人瞩目的是，其...
2025年8月14日，上海 中芯国际（SMIC）今日公告将投资42亿美元扩建上海临港7纳米EUV晶圆厂，规划月产能增至3.5万片。引人瞩目的是，其设备采购清单首次出现上海微电子（SMEE）的28nm ArF浸没式光刻机与中科科仪电子束检测装备——暗示国产替代进程加速。
尽管EUV光刻机仍依赖ASML，但消息人士透露，SMEE的NA 0.55 EUV原型机已进入客户端验证，预计2027年交付。此次扩产将服务国产AI芯片（如昇腾920）、车规MCU及Chiplet先进封装需求。美国商务部更新实体清单，新增3家中国半导体设备商，但分析师认为：“成熟制程本土化闭环已不可逆。”
责编：宗何
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